세라믹 멤브레인 청소는 필름 성능을 복원하는 데 필수적인 단계입니다.

세라믹 막 이해

세라믹 멤브레인은 무기 멤브레인의 일종이며 멤브레인 분리 기술에서 고체 멤브레인 재료에 속합니다. 이들은 주로 알루미나, 지르코니아, 티타니아 및 실리카와 같은 다양한 세라믹 재료로 구성되며 표면 코팅 및 고온 소성으로 다양한 크기와 모양으로 성형됩니다. 상업용 세라믹 멤브레인은 일반적으로 비대칭 분포를 가진 3 층 구조 (다공성 지지층, 전이 층 및 분리층) 를 가지며, 공극 크기는 0.8nm 에서 1μm 사이이며 미세 여과를 덮고 있습니다. 초여과 및 나노 여과 수준.

널리 사용되는 막 분리 기술로서, 세라믹 막은 식품, 화학, 환경 보호 및 제약 산업에서 광범위하게 응용되고 있다. 그러나, 세라믹 멤브레인을 사용하는 동안 오염 및 오염은 불가피하며, 이는 막 투과 플럭스를 점차적으로 감소시키고 언제든지 막힘을 유발할 수 있다. 최근, 세라믹 막 오염을 제거하기 위한 다양한 세정 방법이 제안되고 있으며, 크게 물리적 방법 및 화학적 방법의 두 가지 범주로 나눌 수 있다.

세라믹 멤브레인 청소

물리적 방법은 액체 흐름 플러싱 또는 기계적 작용을 사용하여 먼지를 제거하는 방법을 말합니다. 일반적인 물리적 방법에는 역세척, 저압 및 고 유량 세정, 부압 세정 및 기계적 스크래핑이 포함됩니다. 구체적으로:

역세척: 일반적으로 사용되는 세정 방법으로서, 액체 또는 가스는 역세척 캐리어 (backwash carrier) 로서 작용하여, 투과성 액체가 반대로 작용하도록 세라믹 막의 투과성 액체 방향에 대해 압력을 가하고, 외부 표면과 멤브레인의 기공에있는 오염 물질을 청소하고 멤브레인 플럭스를 복원하십시오.

저압 및 고 유량 세정: 이것은 낮은 작동 압력을 사용하여 액체의 유량을 증가시켜 막 표면에 남아있는 용질 분자의 가능성을 감소시키는 것을 포함한다.

음압 청소: 이것은 막 내부와 외부의 오염 물질을 청소하는 효과를 달성하는 막의 양쪽에 부정적인 압력을 생성하기 위해 진공 흡입을 사용하는 것을 포함합니다.

기계적 스크래핑: 여기에는 부드러운 폼 볼과 스폰지 볼을 매체로 사용하여 멤브레인의 내부 표면을 청소하는 것이 포함됩니다. 스폰지 볼은 수압으로 반복적으로 세척되어 불순물을 제거하는데 매우 효과적인 방법이며 유기 젤 불순물을 청소하는 데에도 적합합니다.

사용 중에 세라믹 막의 원래 플럭스를 유지하기 위해서는 물리적 인 세척만으로는 충분하지 않으며 불순물과 먼지를 완전히 제거하기 위해 화학 세정과 결합해야합니다. 화학적 방법은 화학 물질을 사용하여 먼지와 반응하여 제거합니다. 세라믹 멤브레인에 의해 처리 된 재료는 매우 다양하고 세라믹 멤브레인의 외부 표면에 흡착 된 물질은 오염 수준에 상당한 차이가 있기 때문에, 화학 세정제의 선택은 또한 세라믹 멤브레인을 세정하는 목표를 달성하기 위해 목표로 삼아야합니다.

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